电子光学：采用 Schottky 场发射源，Sirion 类型，电压 200V 至 30kV 连续可调，束流小于 20nA。分辨率在 30kV 时为 0.8nm（STEM 模式），15kV 时为 1.0nm，1kV 时为 2.5nm（可实现 1.9nm）。

离子光学：Sidewinder 场发射聚焦离子束光学，液态镓离子发射源，电压 2kV 至 30kV，束流 20nA（15 级可调），分辨率在 30kV 时为 7.0nm。

扫描系统：分辨率有 512x442、1024x884、2048x1768、4078x1254 像素等多种选择，最小驻留时间 50ns / 像素，电子扫描旋转角度为 n x 360 度。

样品台：5 轴电动 x - y - z - 旋转 - 倾斜台，倾斜范围 - 10 至 60 度，电动 Z 轴范围 20mm，台重复性在 0 度和 52 度倾斜时为 0.5 微米，配有可倾斜 150 度的翻转台，可放置六个 TEM 半栅格。
主要功能

材料分析：可对金属、陶瓷、聚合物、玻璃和半导体等多种材料进行分析，通过二次电子成像和成分分析等功能，提供材料的微观结构信息。

半导体检测与修改：能进行 FIB 线路修改、FIB 切片以及 SEM 电镜观察等操作，常用于半导体设计与失效分析，帮助工程师快速定位芯片中的问题区域，并进行针对性的修复和改进。

纳米加工：利用聚焦离子束进行纳米级铣削，可实现单束铣削、多束成像和沉积等功能，能够精确地去除少量材料，或在基板上精确放置金属或其他材料，满足纳米电子制造等领域的加工需求。

无损检测：与超声波扫描显微镜等设备类似，FEI Strata 400 也可在一定程度上对材料内部结构进行无损检测，通过观察材料内部的微观结构，检测是否存在缺陷、裂纹等问题。